三星第代量产,性能更强
9月24日消息,三星半导体宣布其量产首批第9代QLCV-NAND,为各种AI场景和设备提供了大容量和高性能的内存解决方案。
这款第9代QLCV-NAND使用了通道孔蚀刻技术,实现了业界最高的层数和双堆栈结构。采用预设模具技术和调整字线间距,三星第代量产,性能更强确保NAND层与层之间单元特性的均匀性,提高了数据保留性能约20%。
在读写性能上,第9代QLCV-NAND使用了预测编程技术通过预测和控制单元状态变化,实现了写入性能翻倍,写入和读取速度都提升了60%,有效缓解QLCNAND写入缓慢的问题。

能效方面第9代QLCV-NAND也有进步,它通过减少NAND单元驱动电压并只感应必要的位线(BL),大幅降低功耗。读写时的功耗分别减少了约30%和50%。
三星半导体有望为市场带来容量更大和性价比更高的存储产品,为用户提供更优质的存储解决方案。
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